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MKS640A-22686流量計氣體壓力流量控制器
簡要描述：MKS640A-22686流量計氣體壓力流量控制器
產(chǎn)品型號：- 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
- 更新時間：2025-09-17
- 訪 問 量：748
MKS649B0C121T21CAVR壓力流量控制器MKS640A-22686流量計氣體壓力流量控制器
MKS流量計640A-14312
HORIBA品牌IV-2410AV注射閥 INJECTION VALVE
松下電機Panasonic MFA030HA2NSK原裝功能可維修
美國MKS640A-14312氣體質(zhì)量流量計1480A控制器
MKS649B0C121T21CAVR壓力流量控制器
MKS美國649B氣體質(zhì)量流量計1480A控制器
深圳市天鉉真空技術有限公司成立于，是國內(nèi)專業(yè)的流量計服務商。致力于進口質(zhì)量流量計、壓力傳感器等壓力測量器件的校準、維修及*。其技術*、高可靠性及誠信使其成為行業(yè)的，是專業(yè)的MFC技術服務商。
專門經(jīng)營進口氣體質(zhì)量流量計銷售，全套校準證書，一年質(zhì)保期。
本公司專業(yè)銷售質(zhì)量流量計近40年，具有豐富的銷售和售后服務經(jīng)驗，我們有專業(yè)的服務團隊和專業(yè)工程師對產(chǎn)品進行跟蹤服務。
具體產(chǎn)品參數(shù)，價格請詢價，請聯(lián)系張經(jīng)理
本公司主要經(jīng)營的品牌有：
HORIBA
MKS
BROOKS
UNIT
AERA
MKS
MYKROLIS
MILLIPORE
SAM
STEC
美國MKS640A-14312氣體質(zhì)量流量計1480A控制器
流量計FC-2902VigiLJbTA 第二種辦法是順序執(zhí)行指令。一個程序由若干個程序段組成，每個程序段的指令可以設計成順序地存放在存儲器之中，所以只要指令地址寄存器兼有計數(shù)功能，在執(zhí)行指令的過程中進行計數(shù)，自動加一個增量，就可以形成下一條指令的地址，從而達到順序執(zhí)行指令的目的。這個辦法適用于以隨機存儲器作為主存儲器的計算機。當程序的運行需要從一個程序段轉(zhuǎn)向另一個程序段時，可以利用轉(zhuǎn)移指令來實現(xiàn)。轉(zhuǎn)移指令中包含了即將轉(zhuǎn)去的程序段入口指令的地址。執(zhí)行轉(zhuǎn)移指令時將這個地址送人程序計數(shù)器(此時只作為指令地址寄存器，不計數(shù))作為下一條指令的地址，從而達到轉(zhuǎn)移程序段的目的。子程序的調(diào)用、都用類似的方法。在隨機存取存儲器普及以后，第二種辦法的整體運行效果大大地優(yōu)于*種辦法，因而順序執(zhí)行指令已經(jīng)成為主流計算機普遍采用的辦法，程序計數(shù)器就成為*處理器*的一個控制部件。
MKS354005-YD-T
Granville-PHillips真空計 275529-EU
1.型號：275529-EU
2 MKS390411-0-YE-T真空計GRANVILLE-PHILLIPS
3.非實價，議價！英?？嫡婵沼婱KS354005-YD-T離子對撞壓力計MKS INFICON BAG302 B-A 型熱陰極電離真空計(中高真空計)
INFICON 單臺 Bayard-Alpert 熱離子計 BAG302 的測量范圍從 1.3 × 10-9 到 6.7×10-2 mbar（1 × 10-9 到 5 × 10-2 Torr）。緊湊型一體化熱離子計BAG302提供易于更換的雙燈絲傳感器，內(nèi)置OLED顯示屏，設定點繼電器和對數(shù)線性模擬輸出以及集成的RS485數(shù)字接口，可提高集成靈活性。這些功能與堅固的設計相結(jié)合，使BAG302成為一種經(jīng)濟實惠且可重復的過程，可作為自己的壓力測量儀器的基礎，并提供高價值/低擁有成本的選擇。
INFICON 的 BAG302 熱離子計是下面列出的 MKS/GP 部件號的直接直接替代品。 這還包括較舊的傳統(tǒng) MKS 354 微離子®模塊。
MKS系列 部件號 顯示 單位 輸出 法蘭型 燈絲 INFICON部件號 355 微離子® 355400-0-碼 不 托 模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050 355 微離子® 355400-0-葉-T 不 托 模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051 355 微離子® 355400-0-YK-T 不 托 模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052 355 微離子® 355400-0-YF-T 不 托 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 355 微離子® 355400-0-YG-T 不 托 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 355 微離子® 355400-0-碼 不 毫巴 模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050 355 微離子® 355400-0-葉-T 不 毫巴 模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050 355 微離子® 355400-0-YK-T 不 毫巴 模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052 355 微離子® 355400-0-YF-T 不 毫巴 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-052 355 微離子® 355400-0-YG-T 不 毫巴 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 355 微離子® 355400-0-碼 不 帕斯卡 模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050 355 微離子® 355400-0-葉-T 不 帕斯卡 模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051 355 微離子® 355400-0-YK-T 不 帕斯卡 模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052 355 微離子® 355400-0-YF-T 不 帕斯卡 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 355 微離子® 355400-0-YG-T 不 帕斯卡 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 355 微離子® 355600-0-碼 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050 355 微離子® 355600-0-葉-T 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050 355 微離子® 355600-0-YK-T 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052 355 微離子® 355600-0-YF-T 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-052 355 微離子® 355600-0-YG-T 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 355 微離子® 355600-0-碼 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050 355 微離子® 355600-0-葉-T 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051 355 微離子® 355600-0-YK-T 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052 355 微離子® 355600-0-YF-T 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 355 微離子® 355600-0-YG-T 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 355 微離子® 355600-0-碼 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050 355 微離子® 355600-0-葉-T 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051 355 微離子® 355600-0-YK-T 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052 355 微離子® 355600-0-YF-T 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 355 微離子® 355600-0-YG-T 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 355 微離子® 355410-0-碼 不 托 RS485 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050 355 微離子® 355410-0-葉-T 不 托 RS485 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051 355 微離子® 355410-0-YK-T 不 托 RS485 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052 355 微離子® 355410-0-YF-T 不 托 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 355 微離子® 355410-0-YG-T 不 托 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
354 微離子® 354001-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050 354 微離子® 354001-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051 354 微離子® 354001-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052 354 微離子® 354001-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 354 微離子® 354001-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 354 微離子® 354001-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050 354 微離子® 354001-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051 354 微離子® 354001-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052 354 微離子® 354001-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 354 微離子® 354001-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 354 微離子® 354001-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050 354 微離子® 354001-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051 354 微離子® 354001-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052 354 微離子® 354001-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 354 微離子® 354001-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 354 微離子® 354002-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050 354 微離子® 354002-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051 354 微離子® 354002-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052 354 微離子® 354002-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 354 微離子® 354002-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 354 微離子® 354002-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050 354 微離子® 354002-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051 354 微離子® 354002-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052 354 微離子® 354002-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 354 微離子® 354002-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 354 微離子® 354002-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050 354 微離子® 354002-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051 354 微離子® 354002-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052 354 微離子® 354002-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 354 微離子® 354002-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 354 微離子® 354005-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 RS485 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050 354 微離子® 354005-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 RS485 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051 354 微離子® 354005-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 RS485 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052 354 微離子® 354005-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 354 微離子® 354005-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 354 微離子® 354005-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 RS485 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050 354 微離子® 354005-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 RS485 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051 354 微離子® 354005-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 RS485 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052 354 微離子® 354005-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 354 微離子® 354005-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054 354 微離子® 354005-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 RS485 DN 16 國際標準-KF 釕涂層銥 352-050 354 微離子® 354005-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 RS485 DN 25 國際標準-KF 釕涂層銥 352-051 354 微離子® 354005-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 RS485 DN 40 國際標準-KF 釕涂層銥 352-052 354 微離子® 354005-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053 354 微離子® 354005-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
好處
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測量范圍從 1.3 × 10-9 到 6.7×10-2 mbar（1 × 10-9 到 5 × 10-2 Torr）
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兩種標準長壽命氧化釔涂層銥絲
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一體化有源儀表，內(nèi)置顯示屏、設定點、模擬輸出和標準集成 RS485 數(shù)字接口
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明亮的數(shù)字 OLED 顯示屏，帶鍵盤，便于設置、操作和編程
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用戶可編程設定點繼電器
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用戶可編程顯示單位，單位為毫巴、托或帕
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用戶可選發(fā)射電流自動量程
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機械強度和堅固性
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多種法蘭選擇
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易于更換的傳感元件
合規(guī)性和標準：CE，RoHS
直接插入取代格蘭威-菲利普斯® 354微離子®模塊 - 相同的控制功能，包括軟件命令（RS485）（Granville-Phillips®和Micro-Ion®是MKS Instruments，Andover，MA的注冊商標）
典型應用
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半導體工藝和傳輸室中的壓力測量
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工業(yè)涂料
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低真空至超高真空范圍內(nèi)的一般真空測量和控制
英?？嫡婵沼婥DG045D薄膜規(guī)0.01TORR 3CC9-S51-23G0 測量范圍從 1.3 × 10-9 到 6.7×10-2 mbar（1 × 10-9 到 5 × 10-2 Torr）
兩種標準長壽命氧化釔涂層銥絲
一體化有源儀表，內(nèi)置顯示屏、設定點、模擬輸出和標準集成 RS485 數(shù)字接口
明亮的數(shù)字 OLED 顯示屏，帶鍵盤，便于設置、操作和編程
用戶可編程設定點繼電器
用戶可編程顯示單位，單位為毫巴、托或帕
用戶可選發(fā)射電流自動量程
機械強度和堅固性
多種法蘭選擇
易于更換的傳感元件
合規(guī)性和標準：CE，RoHS
直接插入取代格蘭威-菲利普斯® 354微離子®模塊 - 相同的控制功能，包括軟件命令（RS485）（Granville-Phillips®和Micro-Ion®是MKS Instruments，Andover，MA的注冊商標）
典型應用
半導體工藝和傳輸室中的壓力測量
工業(yè)涂料
低真空至超高真空范圍內(nèi)的一般真空測量和控制
英?？嫡婵沼婥DG045D2復合規(guī)3CC5-651-238B
275400-1-GD-T（MKS）
355400-0-TD-T（MKS）
355001-TD（MKS）
SERIES355HOT CATHODE TRANSDUCER Granville-Phillips@355400-0-TD-T（MKS）
IGM401 （Instrutech）
CVM211GBA （Instrutech
- 深圳市天鉉真空技術有限公司
- 富士金流量計Fujikin氣體控制器FCST1030LUC-4J2-F6L-N2
- Granville-Phillips®真空壓力計mks356036-YE-T現(xiàn)貨供應
- Granville-Phillips® 真空壓力計
拍前請聯(lián)系店主 普發(fā)真空計PKR251 英?？?
產(chǎn)品簡介：
瑞士INFICON PEG100潘寧真空計，這款堅固的潘寧冷陰極電離真空計可準確測量 1 x 10-2 毫巴到低至 1 x 10-9 毫巴的高真空壓力。 還有現(xiàn)場總線可供選擇。
PEG100潘寧真空計 的詳細介紹
INFICON PEG100潘寧真空計提供可靠的高真空測量。堅固耐用的潘寧冷陰極傳感器不會出現(xiàn)單絲燒毀的現(xiàn)象。 由于采用鈦陰極板且等離子點火后高電壓將會降低，潘寧真空計還可在濺射應用環(huán)境下運行。 現(xiàn)場總線選件以及對數(shù)模擬輸出信號允許使用 Profibus DP 或 DeviceNet 協(xié)議，將真空計輕松集成到真空系統(tǒng)中。
PEG100潘寧真空計益處：
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測量范圍廣，從 1 x 10-9 至 1 x 10-2 毫巴（7.5 x 10-10 至 7.5 x 10-3 托）
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全金屬冷陰極傳感器（潘寧），帶陶瓷饋入裝置
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創(chuàng)新的電極幾何形狀提供***的點火屬性
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等離子點火后降低的高壓和鈦陰極板可減少污染危險，即使在有氬氣的濺射運行中
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陽極環(huán)和鈦陰極可輕松進行清潔或更換
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***小化真空計附近的磁場強度
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用于電源接通和等離子體點火的 LED 指示器
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對數(shù)模擬輸出信號
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現(xiàn)場總線接口（Profibus DP、DeviceNet）允許使用網(wǎng)絡通信將真空計輕松集成到真空系統(tǒng)中
PEG100潘寧真空計典型應用：
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高真空壓力監(jiān)控
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蒸發(fā)濺射系統(tǒng)
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高真空范圍內(nèi)的一般真空測量和控制
PEG100潘寧真空計選型指南：
PEG100零件號說明351-000 351-002 351-003 351-004 351-005
| 真空計 |
| PEG100-P 規(guī)管 |
| PEG100D 型真空計 |
| PEG100-D Penning Gauge; DN40CF-F |
| PEG100-P 規(guī)管 |
備件
PEG100零件號說明351-490
| 陰極片 |
在線交流
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